2008년하반기 반도체공정교육
■ 교육개요
- 일 시 : 2008년8월18일월) ~ 8월21일(금)/ 5일, 40시간과정(1일/8시간)
- 접수기간 : 2008년 8월 05일(화) ~8월 13일(수)
- 장 소 : 이론 - 경북대학교 공대11호관 103호/ 실습 - 반도체융합연구동
- 교육대상 : 반도체 교육을 희망하는 일반 및 학생
- 모집인원 : 15명
- 교 육 비 : 일반/60만원, 학생/40만원
■ 목 적 : CMOS 소자 제작과 관련된 Module process 공정 교육
■ 교육내용 : 0.6um Tech에 사용되고 있는 LOCOS(LOCal Oxidation of Silicon) 공정을 진행함으로써, 이 공정 과정에서 사용되는 반도체 기본공정(cleaning, oxidation, etching, photo, lithography, deposition 등) 및 공정 과정에서 고려되어야 할 기술적 요소에 대한 이해 및 실습을 통한 확인
■ 기 타 : 실습공정의 특성상 단위 공정별 소요 시간이 길어 대기 시간이 많은 것이 단점. 이를 보완하기 위해서 본 교육기관에서 보유한 공정장비에 대한 활용법 교육(ion-implanter, ALD 등 다수)을 병행함으로써 보다 많은 공정 활용교육을 실시할 것임
■ 문의처 : 053-950-7594/950-7591 / WWW.necst.or.kr/necst@ee.knu.ac.kr.
자세한 사항은 홈페이지 공지사항 참조하세요.
경북대학교 반도체공정교육 및 지원센터장
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